中國芯片產(chǎn)業(yè)長期以來面臨先進(jìn)工藝的瓶頸,尤其在EUV光刻機(jī)的缺失下,國產(chǎn)企業(yè)曾依賴2000i進(jìn)行7納米工藝生產(chǎn)。然而,國內(nèi)企業(yè)并未放棄,通過浸潤式DUV光刻機(jī)和多重曝光技術(shù),近期海外實(shí)驗(yàn)室已證實(shí),這種技術(shù)理論上能生產(chǎn)出5納米甚至更先進(jìn)的工藝,盡管良率和成本問題突出,對海外芯片企業(yè)吸引力有限。
對中國市場而言,5納米工藝的國產(chǎn)化具有重大意義,隨著先進(jìn)芯片在服務(wù)器、PC等各行業(yè)廣泛應(yīng)用,尤其是在能耗敏感的服務(wù)器市場,國產(chǎn)芯片的自給自足變得至關(guān)重要。盡管成本高昂,但滿足國內(nèi)需求、降低對外依賴,尤其是AI等領(lǐng)域的支持,是當(dāng)務(wù)之急,這在當(dāng)前美國對關(guān)鍵技術(shù)供應(yīng)的限制背景下顯得尤為突出。
據(jù)統(tǒng)計(jì),中國芯片市場70%以上的需求集中在14納米以上工藝,這些技術(shù)已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)并影響全球。中國成熟工藝芯片已具備出口競爭力,若能進(jìn)一步突破5納米,將極大減少進(jìn)口依賴,對于AI等本土產(chǎn)業(yè)的推動(dòng)具有戰(zhàn)略意義。華人工程師在全球芯片領(lǐng)域的貢獻(xiàn)不容忽視,從臺積電到美國企業(yè),華人人才眾多,這為我國突破工藝限制提供了深厚的技術(shù)基礎(chǔ)。
總的來說,盡管挑戰(zhàn)重重,但中國芯片行業(yè)憑借自身的努力和人才儲(chǔ)備,正逐漸打破先進(jìn)工藝的桎梏,實(shí)現(xiàn)自給自足的前景可期。